삼성·ASML, 1조원 투자해 국내에 연구시설 짓는다

▲네덜란드를 국빈 방문한 윤석열 대통령이 12일(현지시간) 벨트호벤 소재 ASML 본사에서 열린 한-네덜란드 반도체 기업인 간담회에서 발언하고 있다. 왼쪽부터 뤼크 반 덴 호버 IMEC 대표, 최태원 SK그룹 회장, 피터 베닝크 ASML 최고경영자(CEO), 윤 대통령, 빌럼-알렉산더르 국왕, 이재용 삼성전자 회장, 안드레아스 페처 ZEISS SMT 대표.(연합뉴스)

삼성전자가 네덜란드 반도체 장비업체 ASML과 손잡고 1조 원 투자해 국내에 반도체 제조 기술 연구시설을 짓는다. 또한, 한국과 네덜란드는 반도체 미래 인력 육성도 함께하기로 했다.

윤석열 대통령은 12일(현지 시간) 빌렘 알렉산더르 네덜란드 국왕과 함께 펠트호번에 위치한 ASML 본사를 방문했다. 이재용 삼성전자 회장과 최태원 SK그룹이 회장도 동행하고 ASML과 협력 양해각서(MOU)를 맺었다.

이에 따라 양사는 내년부터 공동으로 1조 원을 투자해 국내 차세대 반도체 제조기술 R&D 센터를 설립 운영한다. 이 연구센터는 차세대 극자외선(EUV)을 기반으로 초미세 제조 공정을 공동 개발하게 된다고 대통령실은 설명했다. 이를 통해 EUV 한 대당 전력사용량을 20% 줄이고 연 165억 원의 비용 절감 효과를 낼 것으로 기대된다.

이날 한국과 네덜란드는 미래 반도체 인재도 함께 양성하는 첨단 반도체 아카데미 협력도 체결했다. 한국 측에서는 한국과학기술원(KAIST)·울산과학기술원(UNIST)·성균관대 등 3개 반도체 특성화 대학원과 삼성전자·SK하이닉스가 참여한다.

네덜란드에서는 에인트호번공대·브레인포트디벨롭먼트·ASML·ASM·NXP 등 산학연이 대거 참여하기로 했다. 내년 2월 네덜란드에서 1주일간 첫 교육이 열리며 석·박사급 대학원생과 엔지니어가 양국에서 50명씩(양국 도합 100명) 참여한다.

ASML은 반도체 미세공정을 위한 극자외선 노광장비(EUV)를 생산하는 네덜란드 기업이다. 반도체 초격차는 미세공정 가능 여부가 핵심 요소 중 하나임을 고려할 때, 해당 장비를 유일하게 생산하고 있는 ASML과의 긴밀한 파트너십 구축은 국내 반도체 경쟁력 강화를 위한 중요 과제다.