삼성전자, 시스템반도체 투자 확 늘린다… 2030년까지 171조 원 투자

▲삼성전자 클린룸 반도체 생산현장. (사진제공 삼성전자)

삼성전자가 2030년까지 시스템반도체 사업에 171조 원을 투자한다. 2019년 '시스템반도체 비전 2030' 발표 당시 수립한 133조 원의 투자계획에서 무려 38조 원을 늘렸다.

최첨단 EUV(극자외선)를 적용한 평택캠퍼스 3라인 건설에도 본격 착수해 2022년 하반기 완공할 예정이다.

삼성전자는 13일 평택캠퍼스에서 열린 'K-반도체 벨트 전략 보고대회'에서 2030년까지 시스템반도체 분야에 대한 추가 투자계획을 발표했다.

시스템반도체 리더십 조기 확보를 위해 삼성전자는 2030년까지 총 171조 원을 투자하고 첨단 파운드리 공정 연구개발과 생산라인 건설에 더욱 박차를 가한다.

2019년 4월 정부는 삼성전자 화성사업장에서 '시스템반도체 비전 선포식'을 열고 시스템반도체 육성을 통해 종합 반도체 강국으로 거듭나겠다는 계획을 밝혔다. 당시 삼성전자는 '시스템반도체 비전 2030'을 제시하며 133조 원 투자계획을 발표했다.

이후 지난 2년 간 삼성전자를 비롯한 반도체 제조 기업과 팹리스, 소재ㆍ부품ㆍ장비 업체, 학계 등 우리나라 반도체 생태계 주요 구성원 간의 상호 협력이 활성화되며 비전 달성을 위한 기반도 착실히 다져졌다.

최근 모든 산업영역에서 전례 없는 반도체 부족 사태가 빚어지고 각국 정부가 미래 산업의 핵심인 반도체 공급망 유치를 위해 경쟁하는 상황이다. 이번 삼성전자의 시스템반도체 투자 확대는 'K-반도체'의 위상을 한층 더 높이는 데 기여할 것으로 기대된다.

▲삼성전자가 지난해 세계 최대 규모의 반도체 공장인 평택 2라인 가동에 들어갔다. 업계 최초로 EUV 공정을 적용한 첨단 3세대 10나노급 LPDDR5 모바일 D램이 생산된다. 삼성전자 평택캠퍼스 전경 (사진제공=삼성전자)

2022년 하반기 완공될 평택 3라인의 클린룸 규모는 축구장 25개 크기이다. 현존하는 최첨단의 기술이 적용된 팹이다. EUV 기술이 적용된 14㎚(나노미터ㆍ1㎚는 10억 분의 1m) D램과 5㎚ 로직 제품을 양산한다. 모든 공정은 스마트 제어 시스템에 의해 전자동으로 관리된다.

평택캠퍼스는 세계 최대 규모의 반도체 클러스터로서 최첨단 제품을 양산하는 전초기지이자 글로벌 반도체 공급기지로서의 주도적 역할이 더욱 강화될 전망이다.

삼성전자는 앞으로 △차세대 D램에 EUV 기술을 선도적으로 적용해 나가고 △또 메모리와 시스템반도체를 융합한 'HBM-PIM' △D램의 용량 한계를 극복할 수 있는 'CXL D램' 등 미래 메모리 솔루션 기술 개발에도 박차를 가하며 '초격차 세계 1위' 위상을 강화할 계획이다.

이날 행사에서 삼성전자 김기남 부회장은 "한국이 줄곧 선두를 지켜온 메모리 분야에서도 추격이 거세다"며 "수성에 힘쓰기보다는, 결코 따라올 수 없는 '초격차'를 벌리기 위해 삼성이 선제적 투자에 앞장서겠다"고 강조했다.

▲이재용 부회장이 삼성전자 온양사업장을 찾아 반도체 패키징 라인을 살펴보는 모습 (사진제공=삼성전자)

국내 반도체 생태계의 발전을 위한 상생협력과 지원ㆍ투자도 더욱 확대한다.

삼성전자는 시스템반도체 생태계 육성을 위해 팹리스 대상 IP 호혜 제공, 시제품 생산 지원, 협력사 기술교육 등 다양한 상생 활동을 더욱 확대한다. 또 공급망 핵심인 소재ㆍ부품ㆍ장비 업체는 물론 우수 인재 육성을 위한 학계와의 협력을 더욱 강화해 나갈 예정이다.

특히 파운드리 분야는 사업이 커지면 커질수록 국내 팹리스 기업들의 성장 가능성이 높아진다. 결국 많은 팹리스 창업이 이뤄지며 전반적인 시스템 반도체 산업의 기술력이 업그레이드 되는 부가 효과를 유발한다.

업계는 삼성전자의 파운드리 사업 확대가 5G(5세대 이동통신), AI(인공지능), 자율주행 등 우리나라 미래 산업의 밑거름 역할을 할 것으로 기대하고 있다.

김기남 부회장은 "지금 대한민국의 반도체 산업은 거대한 분수령 위에 서 있고 대격변을 겪는 지금이야말로 장기적인 비전과 투자의 밑그림을 그려야 할 때"라며 "우리가 직면한 도전이 크지만 현재를 넘어 미래를 향해 담대히 나아갈 것"이라고 밝혔다.