차세대 극자외선 파장 장비 국내 도입 규제 완화 등 개선
정부가 반도체 기업의 부담을 덜어주기 위해 구제 완화에 나섰다.
산업통상자원부는 12일국내 반도체 산업의 국제 경쟁력을 높이기 위해 반도체 관련 가스 안전 분야 규제 11건을 개선하겠다고 밝혔다.
반도체 제조공정에 쓰이는 수소 등을 포함한 고압가스의 안전 규제로 지난 6월부터 반도체 기업과 유관협회와의 회의를 통해 발굴한 것이다.
7개 과제는 안전성이 확보돼 기업 활동을 촉진할 수 있는 고압가스 관련 반도체 생산 장비와 저장 설비 등에 관한 것으로 전문가 검토를 거쳐 신속하게 개선할 계획이다. 나머지 4개 과제 역시 안전성 확인 후 타 법령과 연계 가능성을 고려해 개선 방안을 마련할 예정이다.
우선 차세대 극자외선 파장(EUV) 장비의 국내 도입 규제 완화와 방호벽 설치기준 완화 등을 통해 반도체 공장 내 부지 활용도를 높일 수 있도록 했다.
예를 들어 차세대 EUV 장비는 현재 신소재 배관에 관한 고압가스법령 상 사용 규정이 없어 국내 도입이 불가한 상황으로, 안전성 검토 후 가스 상세 기준을 개정해 도입할 수 있도록 할 예정이다.
박일준 산업부 2차관은 "반도체 초강대국 달성을 촉진하고 지원하는 기폭제가 될 수 있도록 이번 선정된 혁신규제 과제를 신속히 추진하겠다"고 강조했다.
이어 "앞으로도 반도체 산업뿐만 아니라 에너지 분야 안전과 관련된 타 산업에서도 안전 확보와 산업 발전의 균형을 도모하는 규제혁신 과제를 지속해서 발굴하여 기업 경쟁력이 강화되도록 지원해 나가겠다"고 밝혔다.