일 연구기관 첫 EUV 노광장비 도입
미국 반도체 기업인 인텔이 일본 경제산업성 산하의 국립 연구기관 산업기술종합연구소(AIST)와 함께 일본에 반도체 제조장비와 소재를 연구개발(R&D)하는 센터를 건설할 예정이라고 니혼게이자이신문(닛케이)이 3일 보도했다.
일본은 반도체 생산에서는 한국·대만에 뒤처졌지만, 반도체 장비와 소재에 강점을 갖고 있다. 이에 인텔이 관련 산업을 활성하기 위해 관련 센터 설립에 나선다는 분석이다. 이로 인해 인텔이 일본의 반도체 장비ㆍ소재 업체와 협업을 강화할 것으로 기대된다.
수억 달러가 투자돼 3~5년 내에 설립될 이 센터에는 첨단 반도체 제조에 필수인 극자외선(EUV) 노광장비가 들어설 예정이다. 값비싼 EUV 장비를 공동으로 사용할 수 있는 일본 최초의 연구센터라는 설명이다.
일본에서는 최첨단 반도체 양산을 목표로 하는 라피더스가 12월에 EUV 장비를 도입해 제조할 계획이지만, 일본 연구기관은 지금까지 이런 장비를 보유하지 못했다.
빛을 쬐어 반도체 회로를 그리는 노광장비는 반도체 생산에 필수적으로 네덜란드 ASML이 독점 판매하고 있다. 주로 초미세 공정에는 빛의 파장이 더 짧은 EUV 노광장비, 그 외에는 자외선을 활용하는 심자외선(DUV)이라는 구형 장비가 쓰인다.
특히 EUV는 5나노미터(㎚·10억분의 1m) 이하의 반도체 제조에 필수다. 나노미터 반도체 수가 적을 수로 칩에 더 많은 트랜지스터를 집어넣을 수 있어 컴퓨팅 파워가 올라간다. EUV 장비의 가격은 1대당 2억7300만 달러(약 3700억 원)가 넘는다.
AIST가 이 시설을 운영하고, 인텔은 EUV 노광장비를 사용한 반도체 제조 노하우 등을 제공하기로 했다. 일본 기업들은 이용료를 내고 EUV 노광장비를 사용해 반도체 시험 제작 등을 한다.